半導體區

The Development of Semiconductor Research Center, NYCU

半導體區內部實景

我國半導體領域的研究與發展,始自1960年代。當時國立交通大學廣招國內外學者,共同從事研發工作,並積極培育人才。先是1960年「聯合國特別基金會」核准在國立交通大學電子研究所執行「電子電信訓練研究計畫」,之後,逐步發展成「半導體中心」。營運經費來自教育部與國科會,建立半導體共同實驗室,除提供技術委託服務外,更有助於領域內的教授、研究生及業界執行前瞻性研究。在國內外學者的推動與辛勤耕耘下,不但業界的技術獲得提升,最重要的是培訓出一批半導體工程的高科技人才。

交大「半導體中心」以培育學術界與產業界所需之高科技人才,提升我國電子領域的學術研究水準,並開拓積體電路工業的發展空間為宗旨。未來,半導體中心將進一步和「國家奈米元件實驗室」分工合作,進行深次微米元件模組製程的研究,並將以高頻與通訊元件、顯示元件、系統晶片、微機電、微光學元件等項目為發展重點,繼續推動人才培育及拓展半導體的應用領域(註:半導體中心已於2003年2月更名為奈米中心)。

半導體設備
半導體材料

 

本校半導體研究中心發展簡史
The Development of Semiconductor Research Center, NCTU


第一代半導體(電晶體)時期

First-Generation Semiconductor (Transistor) Period

  • 我國第一座半導體實驗室外貌
    The First Semiconductor Laboratory in Taiwan (1964)
  • 第一代半導體電晶體實驗室內部
    Interior of First-Generation Semiconductor Laboratory (1964)
  • 我國成功研製雙極性電晶體的團隊
    The First Successful Developers of Bipolar Transistors In Taiwan (1965)
  • 我國第一座電晶體實驗工場計畫書
    Prospectus of the Fisrt Transistor Laboratory Factory in Taiwan (1965)

第一代半導體(小型積體電路)時期

First-Generation Semiconductor (Small-scale Integrated Circuit) Period

  • 第一代罩幕製作系統
    A First-Generation Mask Manufacturing System
  • 1970年代半導體中心工作同仁合影
    Semiconductor Research Center Workers in 1970s
  • 第一代磊晶設備
    First-Generation Epitaxy Instruments
  • 紅膠紙製圖桌
    Red Cellophane Drawing Instruments

第二代半導體(大型積體電路)時期

Second-Generation Semiconductor (Large-scale Integrated Circuit) Period

  • 第二代半導體中心大樓外貌
    The Second-Generation Semiconductor Research Center Building (1977)
  • 國科會半導體貴重儀器使用中心簡介
    Introductory Pamphlet of National Science Council Semiconductor Equipment Center
  • 第二代八支石英爐管
    A Second-Generation Furnace System Consisting of Oxidation, Low Pressure Chemical Vapor Deposition (LPVCD), and Annealing
  • 反應性離子蝕刻系統
    A Reactive Ion Etching (RIE) System

第三代半導體(超大型積體電路)時期

Third-Generation Semiconductor (Super Large-scale Integrated Circuit) Period

  • 固態電子系統大樓一隅
    The Solid-State Electronics Building
  • 「國家毫微米元件實驗室」落成紀念碑
    The National Nano Device Laboratory Monument (1992)
  • 介電薄膜活性離子蝕刻系統(第三代)
    A Third-Generation Vacutec Reactive Ion Etching System
  • 分子束磊晶設備
    Molecular Beam Epitaxy Equipment